什么是紫外光辅助O3、H2O2技术？
冬翼光电 2020-12-15
UV/O3/H2O2氧化工艺的基本原理同UV/H2O2技术、UV/O3技术相同,均借助于紫外光激发,形成的强氧化性的氢氧自由基。
UV/O3/H2O2对有机物的降解利用了氧化和光解作用,包括O3的直接氧化、O3、H2O2分解产生的羟基自由基的氧化、直接光解以H2O2的光解和离解作用,这些作用在氧化有机物时的相对重要性取决于各种运行参数如(pH,UV)光强和波长范围、氧化剂之间及与有机物的比值)。紫外线激发下,O3和H2O2的协同作用对有机污染物具有更广谱的去除效果。
Zeff在1988年申请了UV/O3/H2O2法去除多种有机物的专利对200mg/L甲醇溶液在30min内能使其去除97%；在处理受到氯甲烷、二氯甲烷、1,1-二氯乙烷、四氯乙烯、苯、氯苯、甲苯等污染的地下水时,1h内对TOC的去除率达98%。对比试验也显示,UV/O3/H2O2法比单独使用UV、H2O2、O3及其两者组合的氧化体系更为有效。
垃圾渗滤液中含有大量有毒有害物质,其中生物难降解有机物占有很大比例。利用UV/H2O2/O3技术对含高浓度的氯酚、多环芳烃、等有毒有机物的垃圾渗滤液进行了处理,发现UV/H2O2/O3与UV/H2O2相比,对TOC的去除率能提高10%～20%。
